定義：鏡片表面被腐蝕。在對策時一定要區分是不良還是臟污，才能找出真因。

前言：光學玻璃的結構:以硅酸鹽為主（SiO3）加上Mg(鎂)Ba（鋇）K（鉀）La（钄）Pb（鉛）等幾十種離子混合而成。而Mg(鎂)Ba（鋇）K（鉀）La（钄）Pb（鉛）等是活性金屬離子，它們是用來調節鏡片的折射率（nd）、色散系數(vd)的添加劑.按理論分析正常狀態的玻璃的結構是具有均勻性、混合分布各種離子、離子鍵及化學鍵。但在加工過程中受各種因素的影響而使鏡片結構發生變化（形成硅酸溶膠）。

不良定義：不良即腐蝕、發霉，指鏡片研磨完品或膜層上形成化學腐蝕層，從而從鏡片表面看與正常狀態有顏色差異。不良大致可以分為膜上不良和膜下不良。下列為常見的幾種現象：

水紋印、治具印、擦拭印、霉點印、色差印

霧狀、藍點或綠點、白印、手指印

幾種相關名詞：

1、鍍前不良（鏡片表面本身污染/表面腐蝕/水分殘留/溶劑殘留，鍍前已可見）：

---鏡片在研磨過程中研磨液（研磨液通常PH值6.5-7.5但在加工過程會發生變化，由于硅酸鹽、金屬離子與研磨液發生化學反應，造成PH值變化）對鏡片的腐蝕，鍍前反射光可見灰暗不同現狀的痕跡；

---鍍前透過光檢查為白色霧狀；

---研磨完品未及時進行清洗（或擦拭），研磨殘留（研磨液或水）對鏡片的腐蝕；

---清洗后鏡片暴露空氣接觸水分等太長，鏡片受腐蝕；

---洗凈烘干時水分殘留；

---擦拭時后的溶劑殘留；

2、鍍膜色差：（非不良，鍍前不可見）

---因鏡片放置在鍍膜傘的不同位置，基底溫度不均勻；造成鍍膜傘上、中、下膜色差異；

---鍍膜蒸發源偏離原有設定位置，造成在鍍膜傘上中下蒸發膜厚不均勻；

---鍍膜使用離子源時，離子覆蓋的范圍沒有調整合適，離子流密度不均勻造成；

3、膜層臟污：（非不良，鍍前不可見）

---膜下臟，指鍍前未處理干凈，鍍膜后形成明顯的膜色差異，透過光可見。

---膜上臟，包括普通可擦拭的臟和難擦拭的臟污；鍍膜真空室長期未清潔（潔凈度差），膜層致密度低，灰塵、臟污粘付到膜層上時難以擦拭；鍍膜后膜層污染，經高溫環境后形成膜層臟污；

---因鏡片表面研磨表面Ra（粗糙度）大，鍍膜前擦拭可感覺有澀感；鍍膜后擦拭表面形成霧狀，經超聲波洗凈后OK；

4、膜下不良：

---白不良：鍍后在透過光下能見白色霧狀層，為鍍前產生；鏡片表面殘留物（研磨保護漆）在真空室經高溫烘烤分解，在表面形成白霧層，可用溶劑擦拭去除；鍍前不可見；

---鏡片表面富含透明殘留物經高溫烘烤后，與鏡片發生反應形成表面劇烈腐蝕；鍍前不可見；---色不良：研磨后不明顯，鍍膜放置后加重；鍍前不可見

---色斑：研磨涂保護漆前已研磨好表面殘留的水痕、研磨液沒有及時去除徹底，涂好保護漆經高溫烘烤好在表面形成腐蝕痕；

5、膜色不良：

---由于膜料特性及鍍膜工藝不穩定造成膜層致密性差，鍍后吸收水份與O2離子，擦拭無明顯變化，烘烤或放置一段時間后會變嚴重或消失；可通過測試高溫與低溫時分光曲線的變化（差異小于20nm）顯現。

---膜層結晶時高溫下受損（某一層膜厚太薄≤160A），膜料與基底發生反應，高溫下再結晶時不均勻，形成局部分光特性變化；

---研磨在表面形成不同的折射率區域；

---鍍膜真空室內油污嚴重，存在大量各類雜質氣體，加熱后吸附在鏡片表面，造成膜層結晶粗糙，膜層在大氣中吸附各類氣體水分，形成局部分光特性變化，可通過測試高溫與低溫時分光曲線的變化（差異小于20nm）顯現；

---已鍍膜鏡片在擦拭作業后表面殘留的溶劑、水痕等沒有去除干凈，又放入高溫環境下烘烤；

6、霧狀：（非不良）

---表面粗糙、半透明，主要因為材質軟、研磨量不足或洗凈時被化學溶劑腐蝕；

---鏡片長期被酸堿強烈腐蝕;

7、黑不良

---鍍膜膜料金屬氧化物與O2造成（與O2反應不充分，特別是在使用離子源的時候），鏡片置于白色背景可見底色；置于富氧環境中高溫烘烤后，黑色斑點消失；

---多片研磨使用粘貼膠，沒有徹底去除，

---研磨液沒有及時去除，鏡片表面長期沒有得到良好保護，點狀腐蝕嚴重；

8、細傷痕：（非不良）

---研磨完品表面細（淺）、長、密的傷痕，主要因為材質軟、砂掛殘留、研磨量不足、研磨紙（粉）選擇與配比不恰當，超洗加重潛傷等；

---鏡片表面研磨加工時由于研磨液（濃度、PH值、顆粒、溫度）等影響，鏡片表面在化學流布的作用下形成光滑表面，但超聲波洗凈后使潛在傷痕顯現，同時伴有研磨液與洗劑的腐蝕；

9、水紋印不良

---洗凈烘干時IPA純度下降，（或其他烘干劑烘干效果不好）水份未及時蒸干；

---洗劑與除油劑經過剩余其他洗槽沒有去除徹底，表面殘留較多；

---鏡片表面水分與殘留霧在真空室內，經高溫解析后形成H＋＋/OH-，在鏡片表面蒸發與凝結形成表面輕微腐蝕。

不良關聯圖：

通常處理思路：

一.目前所有對策都是加快流程，杜絕人為造成鏡片表面的污染（手指痕、口水痕、其他污物）；
降低表面潔凈鏡片暴露于大氣中被腐蝕的時間；提高膜層致密度；

1、鍍前不良：

---檢查方法：

---反射光下“哈汽法”確認有無殘留點狀痕跡/水紋印；

---強光燈下確認有無臟污/白不良；

---日光燈反光確認鏡片有無黑不良；

2、鍍膜色差不良

---對策/處理：

---鍍膜均勻度調整（鍍膜專業人員）

2.1.膜色不良

---對策:

---砂掛條件變更（鉆石粒粒度、時間、壓力條件、兩支加工調整等）-確保砂掛完品表面粗糙度）；

---研磨條件變更（加工時間、研磨紙、研磨液（PH、濃度、顆粒度）、溫度、壓力條件等-確保研磨完品表面粗糙度）；

---研磨完品在取出后即時清潔表面殘留研磨液與水分，保持表面的潔凈度（注意清潔方法與清潔輔料與更換周期）；

---鍍前處理：使用手工表面返修（單軸機手工返修）

---試驗/驗證：

---通過反射光下“哈汽法”，鍍前檢查確認表面光潔度；

---使用透過光旋轉檢查研磨表面有無白霧、表面研磨刷子狀痕跡；

---通過鍍前處理（手工返修）后鍍制來驗證研磨完品表面質量；

3、膜層臟污：

A、膜上臟污：

---對策/處理：

---膜系調整（如加鍍SiO2，膜表面品質提升）；

---鍍后延長烘烤時間，與鍍膜使用離子源輔助鍍膜（表面致密度提升）；

---鍍后防塵措施（改善存放環境，降低泄大氣前鏡片溫度，保持真空室內潔凈度）；

---防止鍍膜后加工工序形成表面污染，如涂墨高溫烘烤與粘合UV固化加重污染，造成表面臟污；

---擦拭變化，可擦拭與超聲波清洗去除；

B、膜下臟污：

---對策/處理：----鍍前處理

---洗凈處理（確認洗劑濃度與PH值，提高超聲波強度，延長洗凈時間，特殊洗凈工藝）；

---研磨完品在取出后即時清潔表面殘留研磨液與水分，保持表面的潔凈度（注意清潔方法與清潔輔料與更換周期）；

---研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即時去除；

---手工返修處理（研磨粉、CaCO3+干油等擦拭）；

---試驗/驗證：

---鍍前反射光下“哈汽法”確認，

---鍍后不可擦拭

4、膜下不良：

---對策/處理：

----鍍前處理

---研磨條件變更（考慮材質對研磨液等調整）

---考慮材質調整研磨工藝：

---采取研磨后直接鍍膜工藝：芯取、研磨、手工擦拭、檢查、鍍膜；

---采取易不良面后加工工藝（避免多片加工、采取單元一個流作業等）；

---縮短研磨后到鍍膜的時間（檢查前置、免洗凈）；

---研磨完品清擦（吸水棉布，擦拭后達可鍍清潔度），二次清擦法，及時更換擦布；

---已擦拭好研磨完品防潮、防濕（研磨后立即泡IPA，鹵素燈烘干+PE袋+干燥劑等）；

---先鍍易不良面

---洗凈處理（考慮材質及鏡片形狀對洗凈條件進行調整，如洗凈液、鏡片放置方向等）

---手工處理（研磨粉、CaCO3+干油等擦拭）

---試驗/驗證：

---通過手工處理確認鍍后品質

---鍍前強光燈下可見、哈氣法檢查

5、膜色不良：

---對策/處理：

---鍍膜工藝改進（膜層致密度提高（蒸發速率、基底溫度、離子源使用、實際真空度、鍍膜膜料、真空室的潔凈度）；

---使用高能離子去除表面殘留污染，例如：使用SHINCRON SID－1100鍍膜；

---鍍前、鍍后烘烤時間加長

---鍍后完品防塵、防濕

---試驗/驗證：

---一般擦拭不變化（研磨粉、CaCO3擦拭變化，膜層破壞）

---放置變化（變重/消失）

6、霧狀：

---對策/處理：

---砂掛加工條件改善（鉆石粒粒度、時間、壓力條件、兩支加工調整等）確保砂掛完品表面粗糙度；

---研磨條件變更（加工時間、研磨紙、研磨液、壓力條件等）確保研磨完品表面粗糙度；

---研磨完后追加黑毛紙拋光；

---洗凈條件改善（洗劑、時間、溫度等）；

---鍍膜第一層加AL2O3等,離子源電壓（160V～120V）調整，與離子電流密度增加，離子源反應氣體流量適當增加；

---膜層致密度提高；

---試驗/驗證：

---對不同粗糙度的砂掛完品試驗，確認砂掛外觀對研磨完品的影響程度

---通過手擦、洗凈兩種工藝后的品質確認洗凈的影響程度

7、黑膜不良

---反射光檢查

---對策

---鍍膜時O2的增加

---研磨液殘留及時去除，表面臟污及時清理

8、細傷痕

---同霧狀

9、水紋不良

---更換烘干劑